在高纯度气体标准物质研制中对微量或痕量杂质的准确监测，往往是研制工作中的难点。高纯气 体是保证半导体芯片、大规模集成电路生产质量的关键因素，高纯气体的生产要受到众多因素的影响，从称量配气到使用，它要流经很多管道，接触许多配件、控制装置和净化设备，在长期运转过程中，受配件、装置、材质的影响，局部可能发生泄漏或渗漏，均会造成高纯气体的污染。在制备高纯气体标准物质的过程中，同样也受到上述各种因素的影响。因此，对高纯气体纯度的监测，是保证生产过程产品质量的关键环节。
为保证高纯气体标准物质的质量，必须配备高素质的分析人员进行检测和分析工作，其杂质含量 应保证控制在10-6、10-9、10 -12 数量级。对从事 高纯气体质量监测的实验室应当配置高精度的分析仪器，并且每年要进行计量认证，虽然投资较高，但对保证高纯气体的质量,提供准确可靠的分析数据是绝对必要的。
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